ТОР 5 статей: Методические подходы к анализу финансового состояния предприятия Проблема периодизации русской литературы ХХ века. Краткая характеристика второй половины ХХ века Характеристика шлифовальных кругов и ее маркировка Служебные части речи. Предлог. Союз. Частицы КАТЕГОРИИ:
|
Время релаксации системы к состоянию термодинамического равновесияВ предыдущем разделе показано, что высокотемпературные режимы (600 – 1200 К) технологических процессов неизбежно приводит к появлению в упорядоченных структурах достаточно высоких концентраций атомных дефектов. Температурные режимы эксплуатации изделий, как правило, существенно слабее (для электронных устройств не более 400 К) упомянутых технологических режимов. В этой связи можно ожидать, что предварительная выдержка упорядоченных структур при температурах эксплуатации позволит упорядоченной системе перейти в новое равновесное состояние, имеющее существенно меньшую равновесную концентрацию атомных дефектов. Проведем оценку длительности подобной выдержки (релаксации) с целью определения возможности практического использования этого обстоятельства в производственной практике. Не умаляя общности рассмотрения, будем считать, что в качестве микродефектов кристаллической структуры выступают атомные вакансии. В этом случае, соседние с вакансией атомы, совершая переходы, могут последовательно ее занимать, в результате чего атомная вакансия выйдет на поверхность кристалла (т.е. исчезнет). Приняв подобный «прыжковый» механизм перемещения вакансии, можно считать, что элементарный акт перемещения микрочастиц имеет атомарный масштаб. Динамику движения микрочастицы (атом или молекула) можно представить в виде последовательности прыжков из одного положения равновесия в другое, пространственное расположение которых совпадает с расположением минимумов на функции потенциальной энергии кристаллической структуры. При этом считается, что микрочастица может совершить очередной прыжок только лишь в том случае, если ее кинетическая энергия в форме колебательного движения превосходит некоторое пороговое значение Wa, получившего название энергии активации элементарного перехода. Схематическое отображение потенциальной функции кристаллической структуры и механизма пространственного перемещения микрочастицы представлены на рис. 1.1.
Рис. 1.1. Потенциальная диаграмма упорядоченной структуры с атомным дефектом (вакансией) Для дальнейшего рассмотрения модели энергетической диаграммы, представленной на рис. 1.1, уместно привести следующие комментарии: · черным кружком, находящимся на дне потенциальной ямы, условно обозначена микрочастица, находящаяся (некоторое время) в положении энергетического равновесия; · стрелками, исходящими от черного кружка вправо и влево, условно отображено колебательное движение микрочастицы, обусловленное тепловой энергией микрочастицы (считается, что упорядоченная атомная структура находится в состоянии теплового равновесия); · Wa (энергия активации), – энергия, необходимая для обеспечения процесса перехода (по механизму термической активации) микрочастицы из одного положения равновесия в другое (соседнее) положение равновесия (равновесные состояния соответствуют минимальным значениям потенциальной энергии микрочастиц); · a (параметр решетки) – расстояние между соседними атомами кристаллической структуры, в которой инициируется векторизованное движение микрочастицы по пространственному направлению, соответствующему геометрической координате { x } (рассматривается одномерное приближение); · частичное отклонение местоположения минимумов функции потенциальной диаграммы по оси x от регулярного расположения (отображены с помощью вертикальных пунктирных линий, отстоящих друг от друга на расстоянии равном параметру решетки - a) обусловлено проявлением влияния тепловых колебательных движений атомов упорядоченной структуры; · частичное расхождение положения максимумов функции потенциальной диаграммы от регулярного построения обусловлено зависимостью величины максимумов потенциальной энергии атомов от их взаимного пространственного расположения (это обстоятельство отображено с помощью верхней горизонтальной пунктирной линией). Характерной особенностью представленной на рис. 1.1 потенциальной диаграммы является то обстоятельство, что она симметрична по отношению к возможности реализации прыжка носителя заряда как вправо, так и влево, относительно начального местоположения носителя заряда. Из этого следует, что вероятности реализации прыжка вправо и влево равны, что исключает возможность проявления движения микрочастиц в векторизованной форме. Для определения вероятности реализации индивидуального прыжка можно воспользоваться статистикой Максвелла-Больцмана (речь идет о микрочастицах, обладающих целочисленным значением спина). В том случае, считая индивидуальные атомные прыжки статистически независимыми событиями, вероятность удачных прыжков по рассматриваемому механизму движения по вакансиям определяется выражением [12]:
где: Согласно принятому механизму пространственного перемещения микрочастицы, можно считать, что микрочастица ежесекундно совершает
Для справки: собственная частота колебаний · для атомных систем: ~ 1011 – 1012 Гц; · для молекулярных систем: ~ 106 – 109 Гц. В табл. 1.5 представлены характерные значения параметров Т а б л и ц а 1.5 Зависимость параметров
Малые значения параметров С помощью выражения (1.25) можно представить среднюю продолжительность пребывания микрочастицы в равновесном состоянии (т.е. между очередными прыжками) -
В табл. 1.6 представлены характерные значения параметра Т а б л и ц а 1.6 Зависимость времени релаксации
Как отмечалось выше, исчезновение вакансии связано с ее выходом на поверхность упорядоченной структуры (кристалла). Ввиду случайного характера направления движения при элементарном акте перехода микрочастицы из одного положения равновесия в другое, среднее расстояние, проходимое микрочастицей за промежуток времени
где: Из выражения (1.27) следует, что продолжительность процесса выхода вакансии на поверхность упорядоченной структуры
где В первом приближении, параметр В более корректной постановке следует дополнительно учитывать тот факт, что одновременно с процессами выхода вакансий на поверхность (т.е. их гибелью) протекают процессы их генерации (рождения) непосредственно в толще материала, обусловленные переходом микрочастиц из узлов регулярной решетки в междоузлия структуры. Процесс рождения новых вакансий имеет рассмотренный выше активационный механизм и становится возможным только в том случае, если энергия микрочастиц превышает энергию активации процесса перехода из узла кристаллической структуры в междоузлие. Не нашли, что искали? Воспользуйтесь поиском:
|