Главная

Популярная публикация

Научная публикация

Случайная публикация

Обратная связь

ТОР 5 статей:

Методические подходы к анализу финансового состояния предприятия

Проблема периодизации русской литературы ХХ века. Краткая характеристика второй половины ХХ века

Ценовые и неценовые факторы

Характеристика шлифовальных кругов и ее маркировка

Служебные части речи. Предлог. Союз. Частицы

КАТЕГОРИИ:






Технологические схемы.




 

Технологические схемы различаются:

  1. по принципу создания плазмы;
  2. по способу формирования плазменной струи;
  3. по состоянию используемого для распыления материала (распыление порошка, распыление проволоки, при чём распыление проволоки может осуществляться по двум схемам: проволока является нейтральной, или с применением проволоки анода);
  4. по способу защиты процесса напыления от воздействия воздуха;

По первому пункту различают две основные схемы:

- с применением дугового плазматрона, где между электродами создаётся мощный дуговой разряд;

- напыление с использованием высокочастотного индукционного плазматрона, создающего безэлектродный разряд в электронном поле высокой частоты и повышенной напряжённости.

По второму пункту происходит различие по количеству создаваемых дуговых источников плазмы:

- однодуговая с радиальной подачей порошка;

- двухструйная с осевой подачей порошка;

- трехфазная с повышенной мощностью и с осевой подачей порошка.

 

При схеме №1 создаётся турбулентный поток истечения плазмы. С ограниченными показателями эффективности использования тепла представлены схемы №2 и №3, они обеспечивают получение ламинарного плазменного потока с увеличенными показателями эффективности и пониженным уровнем шума.






Не нашли, что искали? Воспользуйтесь поиском:

vikidalka.ru - 2015-2024 год. Все права принадлежат их авторам! Нарушение авторских прав | Нарушение персональных данных