Система ультрафиолетового облучения газов (ОУФ)

Ультрафиолетовое облучение применяется в системах очистки технологических газов и предназначено для ионизации и активации потокв газа аэрозолей с целью повышения эффективности нейтрализации и деструкции примесей.

Система ультрафиолетового облучения газов состоит из 45 ультрафиолетовых облучателей, запитанных от трех распределительных щитов электропитания. Работа ультрафиолетовых ламп контролируется светодиодами на щите контроля работы ламп ОУФ. Ультрафиолетовый облучатель – ОУФ содержит корпус (1) в виде металлической пластины, две
ультрафиолетовые лампы (2), два ПРА (3), два отражателя (4), ручку (5) и кожух (6)для защиты присоединительных контактов.

Лампы и ПРА закреплены на изоляторах (7).

При подаче напряжения, лампы ОУФ генерируют мощное ультрафиолетовое излучение, под воздействием которого происходит ионизация воздуха, образование активных радикалов и образование озона.

ОУФы устанавливаются на 10 щитах крепления ОУФ. Рядом с ОУФ (непосредственно возле каждой лампы) установлен фотодатчик, предназначенный для передачи сигнала о раоте ОУФ на щит индикации и контроля работы ламп ОУФ (ЩИ-ОУФ). В целях защиты ОУФ от механических повреждений они закрыты защитным экраном из сетки с ячейкой 10х10мм.

Не нашли, что искали? Воспользуйтесь поиском: